供应UB－6200半导体晶体集成电路检测用显微镜

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工业显微镜广泛应用于半导体,电子工业进行晶体,集成电路的检验和科学研究.
配备有反射照明,成象和观察系统,偏光装置.
     industrial  microscope  is  widely  used  for  crystal,  integrated  circuit  (ic)  examination
 and  research.  it  is  supplied  with  reflected  illumination,  imaging  and  viewing  system,  
polarized  imaging  system.
规格  specifications  
◇  无限远光学系统,管镜焦距200mm
    infinitive  optical  system,  tube  lens  focal  length  200mm
◇  铰链式三目镜筒,30°倾斜,  瞳距55-75mm
    compensation  free  trinocular  tube,  inclined  at  30°,  interpupillary  distance  55-75mm
◇  高眼点,大视场目镜wf10x/22
    high  point  and  wide  field  eyepiece  wf10/22
◇  长工作距离,平场复消色差物镜2x/0.055,  5x/0.14,  10x/0.28,  20x/0.29,  50x/0.42
     long  working  distance,  plan  apo  objectives  2x/0.055,  5x/0.14,  10x/0.28,  20x/0.29,  50x/0.42
◇  五孔物镜转换器
     quintuple  nosepiece
◇  6″双层活动平台和圆平台
     6″double  layers  mechanical  stage  and  circle  stage
◇  同轴粗微调焦机构,微动格值0.002mm
    coaxial  coarse  &  fin  focus  adjustment  system,   fine  division  0.002mm
◇照明系统  illumination  system
冷光源光纤反射照明器:12v150w
cold  light  fiber  reflected  illnminator:  12v150w

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重庆留辉科技有限公司
张强
18602355405
渝北区五童街138号

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