供应微波芯片光刻胶 Micro led光刻胶成份稳定

加工定制是	种类化合物半导体
特性替代安智AZ光刻胶	用途替代Futurrex光刻胶

替代futurrex光刻胶替代安智az光刻胶现货小包装
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替代富士oir620-09光刻胶替代富士gir 2708光刻胶
柔性卷对卷（roll to roll）光刻胶耐折弯
柔性 fpc工艺光刻胶 cof工艺光刻胶分辨率高
成份稳定 metal mech 铜制程工艺光刻胶附着性好
铜膜工艺光刻胶柔性光刻胶附着性好
metal mesh铜蚀刻液环保型刻蚀液寿命长
深圳市启耀光电有限公司是一家服务于半导体和光电子行业的产品贸易及技术服务提供商。公司创立于2014年已成为国内半导体、光电子行业、相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴；公司秉持以忠诚态度对待新旧客户以客户满意为导向提供优质高效率的专业服务导入以代理原厂产品为中心的共用通路平台提供产品行销及技术支援解决方案。我们期望成为一家经营高科技设备相关设备配件材料及技术整合服务的专业供应商。力求服务与营运的创新公司与客户间利益关系以维持企业永续的竞争优势。
主要产品范围：
1、液晶面板(tft)正型光刻胶
2、触摸屏（touch panl）正型光刻胶超黑矩阵(bm)黑胶 oc光刻胶卷对卷（roll to roll）工艺光刻胶柔性性路板光刻胶 fpc工艺用正胶
3、倒装(bumping)工艺光刻胶：适用于电镀铜(ecp)工艺凸点下金属（ubm）工艺；重布线层（rdl）工艺；影像感测器封装(copper/au piller bump)工艺光
4、 led行业：台阶刻蚀（mesa）工艺正胶蒸镀（lift-off）工艺负胶透明电极（tcl）工艺正胶电流阻挡层（bcl）工艺正胶钝化层（pv）工艺正胶高压芯芯片（hv）工艺正胶。
5、手机盖板行业：3d喷涂曝光型光阻油墨（黑白色）喷涂曝光纹理光阻油墨喷涂曝光抗氢氟酸光阻油墨水性防爆胶喷涂防爆膜变色光阻油墨；
6、铜制程工艺：铜制程表面处理剂铜腐蚀液不伤金属（ni,al,au,ag等）去胶液
7、其它配套试剂：高纯低杂质显影液不伤金属（ni,al,au,ag等）去胶液, 不伤金属（ni,al,au,ag等）去腊液洗边剂(ebr) 不伤铝二氧化硅腐蚀液(boe) 光刻胶稀释剂氧化铟锡(ito)腐蚀液 sio2抛光液钻石抛光液 sio2抛光清洗剂（不伤铝）；
8、其它配件：mocvd外延设备配件（石英配件钨钼配件加热器周边设备配套）；刻蚀机和蒸发台等设备配件；
9、生产制程辅助工具和材料：tray盘花篮膜针等

深圳市启耀光电有限公司
童先生
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